等离子刻蚀机主要采用射频等离子源（也有采用微波离子源）激发反应气体产生等气体离子对目标物进行物理轰击，以达到去除指定物质手段。因为反应力度要求较大，所以等离子刻蚀机基本是采用RF射频等离子发生方式。同理，如果控制等离子源功率和其他相关参数可以降低反应力度，从而也可以对一般电子元件进行清洗去除污染物。从这层作用来讲他们可以共用。

简单来讲，等等离子刻蚀机就是在真空等离子清洗机的原理上增加加入氧气，氢气，氩气，氮气，CF4，SF6这些气体的混和气进去反应腔体内进行化学物理反应。