射频电源产生低温等离子体

      射频电源是等离子体配套电源,它是由射频功率源,阻抗匹配器以及阻抗功率计组成。射频电源产生等离子的原理，是在一个密闭的真空压力容器内，利用真空泵获得一定的真空度，射频被馈入到真空室的两个极板之间。在两个极板之间产生一个变电场。气体在电场上被电离，产生相对应的离子。带电离子被加速不断的碰撞气体分子产生级联效应。就这样产生了辉光，从而产生了等离子体。

射频电源的工作原理

      
射频收发核心电路射频即Radio Frequency，通常缩写为RF。表示可以辐射到空间的电磁频率，频率范围从300KHz～30GHz之间。射频简称RF射频就是射频电流，它是一种高频交流变化电磁波的简称。每秒变化小于1000次的交流电称为低频电流，大于10000次的称为高频电流，而射频就是这样一种高频电流。


射频匹配器的工作原理

      匹配器是根据用户负载的变化而调节自己的参数（电感与电容）达到阻抗匹配的目的，以减少反射的目的。

射频电源区别于其他直流电源，偏压电源，中频电源的优势 
      当交流电源的频率低于50kHz时，气体放电的情况与直流时候的相比没有根本的改变。当频率超过50kHz以后，放电过程开始出现变化：1、在两极之间不断振荡运动的电子可从高频电场中获得足够的能量并使得气体分子电离，而由电离过程产生的二次电子对于维持放电的重要性相对下降。2、高频电场可以经由其它阻抗耦合进入沉淀室，而不必再要求电极一定要是导体。也可以认为，由于所用电源是射频的，射频电流可以通过绝缘体两面间的电容而流动

射频电源应用-等离子刻蚀机  
   

      等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被
真空泵抽走
。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等到离子体的蚀刻方法：反应性等离子体（RIE），顺流等离子体（downstream），直接等离子体（direction plasma）。


等离子刻蚀的应用
等离子体处理可应用于所有的基材，甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗，等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低，因此，低压等离子体也能处理敏感性材料。
等离子刻蚀机的典型应用包括：
等离子体清除浮渣
光阻材料剥离
表面处理
各向异性和各向同性失效分析应用


等离子刻蚀反应
材料改性/包装清洗/钝化层蚀刻/聚亚酰胺蚀刻/增强粘接力/生物医学应用/聚合反应/混合物清洗/预结合清洗


 
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点
1. 硅片水平运行，机片高（等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干，硅片受冲击小）；
2. 下料吸笔易污染硅片（等离子刻蚀去PSG后甩干）；
3. 传动滚抽易变形（PVDF，PP材质且水平放置易变形）；
4. 成本高（化学品刻蚀代替等离子刻蚀成本增加）。
此外，有些等离子刻蚀机，如SCE等离子刻蚀机还具备“绿色”优势：无氟氯化碳和污水、操作和环境安全、排除有毒和腐蚀性的液体。